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產品描述
參數
特性設計：
本公司陽極膜離子源采用模塊化設計，可與現有設備進行有限匹配。主要部件分為：表面外陰極，表面內陰極，磁鐵，磁路(離子源殼體)，陽極，布氣機構，驅動電源。除現有設計外,用戶可選擇：
★定制條形長度
★定制安裝方式
★多路氣體供給系統
★離子束的聚焦模式
★中和燈絲(散焦大電流工作模式)
主要特點
1、大束流,高密度
2、無柵極和燈絲
3、適合各種工作氣體：02、N2和碳氫氣體
4、能在濺射壓強下工作
5、離子束能量范圍：100-2000eV
離子束輔助沉積作用：
★基體預處理提高膜層附著力
★有效控制薄膜內應力，調整成分
★提高膜層聚集密度
★化學配比，優化顯微結構
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工作特性
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| 工作模式 |
聚焦模式
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散焦模式
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| 外形 |
L*145*45（mm）
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| 最大放電電壓 |
＜3000V
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＜500V
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| 最大放電電流 |
＞150mA
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＜5A
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| 離子能量 |
＞1000eV
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＜100eV
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| 工作壓強 |
3*10-2-1.5*10-1Pa
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3.5*10-1-5*10-1Pa
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| 氣體流量 |
0-500Sccm
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| 冷卻水管 |
Φ8或Φ12
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| 冷卻水阻抗 |
50KΩ/M
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| 控制方式 |
Local/Remote
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| 適用范圍 |
＜100°C等離子體清洗及輔助鍍膜
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使用效果圖
關鍵詞:
陽極膜離子源
模塊化設計
設備
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GTHK-8空心陰極離子源
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XNY-H16霍爾離子源
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