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霍爾及陽極層離子源

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GTHK-8空心陰極離子源

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空心陰極離子源是我公司為滿足廣大用戶對真空鍍膜沉積的更高要求而開發的一款新型離子源，具有工作時間長、發熱量小、污染小等特點;適用于鍍前預清洗、低溫冷鍍,改善膜層致密度和穩定性;廣泛應用于手機、鏡頭、眼鏡片、紅外、激光、光通訊、醫療、軍工以及科研等行業。

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XNY-ALS陽極膜離子源

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公司陽極膜離子源采用模塊化設計，可與現有設備進行有限匹配。

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XNY-H16霍爾離子源

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用于真空鍍膜過程中基底離子轟擊清潔及沉積過程中離子轟擊能量輸送。

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